真空镀膜系统

真空镀膜基础知识

电阻蒸发源蒸镀法

采用钽，钼，钨等高熔点金属，做成适当形状的蒸发源，其上装入待蒸发材料，让气流通过，对蒸发材料进行直接加热蒸发，或者把待蒸发材料放入氧化铝，---等坩锅中进行间接加热蒸发，这就是电阻加热蒸发法。

利用电阻加热器加热蒸发的镀膜机结构简单，造价便宜，真空镀膜系统，使用---，可用于熔点不太高的材料的蒸发镀膜，尤其适用于对镀膜要求不太高的大批量的生产中，迄今为止，在镀铝制镜的生产中仍然大量使用着电阻加热蒸发的工艺。

电阻加热方式的缺点是：加热所能达到的高温度有限，加热器的寿命也较短。近年来，为了提高加热器的寿命，---已采用寿命较长的氮化硼合成的导电陶瓷材料作为加热器。据日本---，可采用20％～30％的氮化硼和能与其相熔的耐火材料所组成的材料来制作坩锅，并在表面涂上一层含62％～82％的锆，其余为锆硅合金材料。

真空度对真空镀膜有什么重大影响

真空镀膜行业由于其镀膜工艺，需要抽真空，因此都连接了真空系统，真空泵因此大量应用于真空镀膜行业，真空泵过滤器也具有大量需求。

真空镀膜过程中，使用的真空度一般要求在10的负3次方上下，真空度是真空镀膜时务必严格管理的指标值之一，它对镀膜产品的颜色、耐磨性能、坚固度有非常重要的关联。

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