随着微电子工业的发展，---规模集成电路制造的硅片尺寸越做越大，要求半导体制造工艺中的气体品质相应越来越高，对气体中杂质和露1点要求---严格，需要达到ppb、ppt级，尘埃粒径求控制小于0.1～0.05m的微粒，因此对高纯气体的输送管路系统提出了非常高的要求 。
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直接脱氧法。就是使用活性金属、催化剂与气中的氧气进行反应，---掉气中的氧气，从而达到脱氧的目的，经过分子筛吸收掉气中的水份，使气的含水量小于1ppm。
第ii种
是采用吸气剂。在一定温度下，高纯供气哪里有，吸气剂可吸收氮、氢、氧、、---、等气体经吸收处理后，气的纯度可达到6个九，高纯供气，这种工艺生产出来的高纯气体适用于各类仪器仪表适用要求。
第i种方法设备投资小，第ii种方法设备纯化纯度高但投资相对较大。
目前大多数试验室中的各种分析仪器如气相色谱仪、气相色谱质谱仪、液相色谱质谱仪、原子吸收分光光度计、原子荧光光度计、等离子发射光谱仪、电感耦合等离子质谱仪等都需要连续使用高纯载气和燃气，广西壮族自治高纯供气，因此试验室的安全、连续、稳定运行需要我们考虑如何将这些气体供到各试验室中放置的分析仪器。
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