众所周知,当前工业清洗剂主要分为溶剂型和水基型两种,那么在实际应用中它们又有哪些区别呢?
1、 方面:
碳氢清洗剂属于ods类物质,对---臭氧层有破坏作用,属于控制物质,水基溶剂是的、---的,可直接排放。
2、 设备方面:
水基型清洗后要用纯水漂洗,并需烘干,用电量稍大一些,同时占地面积相对较大,设备成本也对较高。机电设备清洗剂清洗后能自然发挥,工位相对较少,耗电量约低于水基清洗设备,它的占地面积相对较小。
3、 清洗效果方面
碳氢清洗剂采用的是直接溶解所以超声波清洗速度快,周期短,效果直接,。水基清洗是采用洗剂替换的方式,并且是两次替换(次是溶剂替换油污等杂质,第二次是纯水替换溶剂),替换后还需要烘干,故相对清洗时间较长,但水基清洗后没有残留问题。
4、 使用成本方面
溶剂型清洗剂使用原液清洗, 虽然可以重复使用,但由于其高挥发性,定制溶剂纯化价格,及产品的粘附性,其用量十分大。水基溶剂均是兑水使用,单价虽然约高于有机1溶剂,但用量小。水基漂洗需用纯水,但纯水的制水成本较低。
综上所述,两种清洗均能达到清洗效果,水基清洗的使用成本低,安全、。但设备复杂,溶剂型清洗剂清洗速度快、挥发快。
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名称:溶剂净化系统及其方法
技术领域:本发明涉及一种溶剂净化系统和方法。例如,合成和有机金属化学需要非常高纯 度的溶剂。尤其是,合成化学需要去除氧气和潮湿成分的溶剂。有机金属化学甚至需要对 潮湿成分更高纯度的溶剂。换句---,在使用之前,溶剂需要---燥。
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在有机化学实验中,经常使用各类溶剂作为反应介质或用来分离提纯粗产物。由于反应的特点和物质的性质不同,对溶剂规格的要求也不相同。有些反应(如格氏试剂的制备反应)对溶剂的要求较高,即使微量杂质或水分的存在,也会影响实验的正常进行。这种情况下,就需对溶剂进行纯化处理,以满足实验的正常要求。
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