




1.厚度上的均匀性,也可以理解为粗糙度,在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位,约为100a),真空镀膜的均匀性已经相当好,可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内,真空镀膜公司,也就是说对于薄膜的光学特性来说,真空镀膜没有任何障碍。 但是如果是指原子层尺度上的均匀度,也就是说要实现10a甚至1a的表面平整,具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。
2.化学组分上的均匀性: 就是说在薄膜中,化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性,sitio3薄膜,如果镀膜过程不科学,那么实际表面的组分并不是sitio3,而可能是其他的比例,镀的膜并非是想要的膜的化学成分,这也是真空镀膜的技术含量所在。 具体因素也在下面给出。
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要承认漏气究竟的虚漏仍是实漏,因为工件资料加热后都会在不同程度上发生气体,有也许误以为是从外部流进的气体,这即是虚漏,要扫除这种状况。
第二,测验好真空室的气体密封功能,---气密功能符合要求。
第三,查看漏孔的巨细,形状、方位,漏气的速度,制备出可处理方案并施行。
第四,断定检查仪器的1小可检漏率和检漏灵敏性,以1---的检查出漏气状况,防止一些漏孔被疏忽,进步检漏的准确性。
第五,掌握检漏仪器的反应时刻和消除时刻,把时刻掌握好,---检漏仪器作业---,时刻少了,检漏作用必定差,时刻长了,糟蹋检漏气体和人工电费。
第六,还要防止漏孔阻塞,有时因为操作失误,检漏过程中,一些尘埃或液体等把漏孔阻塞了,以为在该方位没有漏孔,但当这些阻塞物因为内外压强区别进步或别的缘由使漏孔不堵了,那漏气仍是存在的。
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制的薄膜的均匀性都会受到某种因素影响。
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