真空镀膜哪里有

蒸发镀膜

一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。厚度均匀性主要取决于：

1、基片材料与靶材的晶格匹配程度

2、基片表面温度

3、蒸发功率，速率

4. 真空度

5. 镀膜时间，厚度大小

组分均匀性：蒸发镀膜组分均匀性不是很容易---，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，真空镀膜哪里有，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。

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真空镀膜机的真空室设计方法

真空镀膜技术是在真空条件下采用物理或者化学方法，使物体表面获取所需膜体，真空镀膜技术根据其采用方法的不同科分成蒸发镀、溅射镀、离子镀、束流沉积以及分子束外延等，这次分析的镀膜设备采用的是磁控溅射镀膜。

真空室是真空设备的一个主要组成部位，真空镀膜设备真空室设计主要考虑的就是密封性和---性，结构必须要合理，真空设备的材料生产都是在真空室内进行的，材料对真空度的影响要小，设计不能马虎，要注意一些问题。

使用磁控溅射的真空镀膜机一般采用的是圆筒主体结构，结构上要---快速抽空，因气袋会缓慢的放气，因此要避免出现隔离孔穴，真空系统上端会加装磁控溅射，为了使真空室和元件有足够的强度，---在外部和内部的作用力下不产生形状的变化，厚度需要足够。

焊接是真空室制造中的一道关键工序，---焊接之后的真空室不会产生漏气现象，须合理设计焊接结构，提高焊接，处在真空的内壁粗糙度要抛光使室外室内表面很光洁，须---注意的是需做好防止生锈的措施。

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