一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。厚度均匀性主要取决于：
1、基片材料与靶材的晶格匹配程度
2、基片表面温度
3、蒸发功率，速率
4. 真空度
5. 镀膜时间，厚度大小
组分均匀性：蒸发镀膜组分均匀性不是很容易---，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。
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真空镀膜机操作程序具体操作时请参照该设备说明书和设备上仪表盘指针显示及各旋钮下的标注说明。
检查真空镀膜机各操作控制开关是否在关位置。
打开总电源开关，设备送电。
低压阀拉出。开充气阀，听不到气流声后，启动升钟罩阀，钟罩升起。
安装固定钨螺旋加热子。把pvdf薄膜和铝盖板固定在转动圆盘上。把铝丝穿放在螺旋加热子内。清理钟罩内各部位，---无任何杂质污物。
落下钟罩。
启动抽真空机械泵。
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真空镀膜行业由于其镀膜工艺，真空镀膜多少钱，需要抽真空，因此都连接了真空系统，真空泵因此大量应用于真空镀膜行业，真空泵过滤器也具有大量需求。
真空镀膜过程中，使用的真空度一般要求在10的负3次方上下，真空度是真空镀膜时务必严格管理的指标值之一，它对镀膜产品的颜色、耐磨性能、坚固度有非常重要的关联。
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