真空镀膜机操作程序具体操作时请参照该设备说明书和设备上仪表盘指针显示及各旋钮下的标注说明。
检查真空镀膜机各操作控制开关是否在关位置。
打开总电源开关，设备送电。
低压阀拉出。开充气阀，听不到气流声后，启动升钟罩阀，钟罩升起。
安装固定钨螺旋加热子。把pvdf薄膜和铝盖板固定在转动圆盘上。把铝丝穿放在螺旋加热子内。清理钟罩内各部位，---无任何杂质污物。
落下钟罩。
启动抽真空机械泵。
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镀膜方法可以分为气相生成法，氧化法，离子注入法，扩散法，电镀法，涂布法，液相生长法等。气相生成法又可分为物理气相沉积法，化学气相沉积法和放电聚---等。
真空蒸发，溅射镀膜和离子镀等通常称为物理气相沉积法，是基本的薄膜制备技术。它们都要求淀积薄膜的空间要有一定的真空度。所以，真空技术是薄膜制作技术的基础，获得并保持所需的真空环境，是镀膜的---条件。
氧化物一氧化硅sio，二氧化硅sio2，二氧化钛tio2，二氧化锆zro2，二氧化铪hfo2，一氧化钛tio，五氧化三钛ti3o5，五氧化二铌nb2o5，五氧化二钽ta2o5，真空镀膜哪里有，氧化钇y2o3，氧化锌zno等高纯氧化物镀膜材料。
其它化合物---锌zns，---znse，氮化钛tin，碳化硅sic，钛酸---latio3，钛酸钡batio3，钛酸---srtio3，钛酸镨prtio3，硫1化镉cds等真空镀膜材料。
金属镀膜材料高纯铝al，高纯铜cu，高纯钛ti，高纯硅si，高纯金au，高纯银ag，高纯铟in，高纯镁mg，高纯锌zn，高纯铂pt，高纯锗ge，高纯镍ni，高纯金au，金锗合金auge，金镍合金auni，镍铬合金nicr，钛铝合金tial，锌铝合金znal，铝硅合金alsi等金属镀膜材料。
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