




离子蒸发及溅射源
多弧镀的蒸发源一般为圆饼形,真空镀膜多少钱,俗称圆饼靶,也有长方形的多弧靶。靶座中装有磁铁,通过前后移动磁铁,改变磁场强度,可调整弧斑移动速度及轨迹。为了降低靶及靶座的温度,真空镀膜系统,要给靶座不断通入冷却水。为了---靶与靶座之间的高导电、导热性,还可以在靶与靶座之间加锡垫片。磁控溅射镀膜一般采用长方形或圆柱形溅射阴极。
真空室
涂层设备主要有连续涂层生产线及单室涂层机两种形式,不锈钢材料制造、弧焊接、表面进行化学抛光处理,真空室组件上焊有各种规格的法兰接口。
真空获得部分
在真空技术中,真空获得部分是重要组成部分。真空的获得不是一种真空设备和方法所能达到的,真空镀膜哪里有,必须将几种泵联合使用,如机械泵、罗茨泵、分子泵系统等。
真空测量部分
真空系统的真空测量部分,就是要对真空室内的压强进行测量。像真空泵一样,没有一种真空计能测量整个真空范围,人们于是按不同的原理和要求制成了许多种类的真空计。如热偶计,电离计,皮拉尼计等。
电源供给部分
靶电源主要有直流电源、中频电源、脉冲电源、射频电源(rf),常见的电源厂商有ae,甘肃真空镀膜,adl,霍廷格等。

st系列镀膜机系我司标准化产品,满足大部分实验室科研需求,丰富的可选配置也可响应您的特殊需要。特点:1、集成一体化结构。
2、---真空度高,可达7×10-5pa,可---更高的镀膜纯净度,提高镀膜。
3、从---到工作背景真空(7×10-4pa)时间短,30分钟左右(充干燥氮气)。 系统停泵关机12小时后真空度:≤8pa。
4、整机采用柜式结构,密封性能好,防尘防水,安全。
5、磁控、热蒸发多种镀膜方式可选。
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