真空镀膜机操作程序具体操作时请参照该设备说明书和设备上仪表盘指针显示及各旋钮下的标注说明。
检查真空镀膜机各操作控制开关是否在关位置。
打开总电源开关，设备送电。
低压阀拉出。开充气阀，听不到气流声后，启动升钟罩阀，钟罩升起。
安装固定钨螺旋加热子。把pvdf薄膜和铝盖板固定在转动圆盘上。把铝丝穿放在螺旋加热子内。清理钟罩内各部位，---无任何杂质污物。
落下钟罩。
启动抽真空机械泵。
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离子蒸发及溅射源
多弧镀的蒸发源一般为圆饼形，俗称圆饼靶，也有长方形的多弧靶。靶座中装有磁铁，通过前后移动磁铁，改变磁场强度，可调整弧斑移动速度及轨迹。为了降低靶及靶座的温度，要给靶座不断通入冷却水。为了---靶与靶座之间的高导电、导热性，还可以在靶与靶座之间加锡垫片。磁控溅射镀膜一般采用长方形或圆柱形溅射阴极。
薄膜是一种物质形态，它所使用的膜材料非常广泛，可以是单质元素或化合物，真空镀膜系统，也可以是无机材料或有机材料。薄膜与块状物质一样，可以是单晶态的，多晶态的或非晶态的。近年来功能材料薄膜和复合薄膜也有很大发展。镀膜技术及薄膜产品在工业上的应用非常广泛，尤其是在电子材料与元器件工业领域中占有及其重要的---。
真空镀膜系统由艾明坷科技（北京）有限公司提供。艾明坷科技（北京）有限公司位于北京市通州区宋庄镇丁各庄环村北路2-1号。在市场经济的浪潮中拼博和发展，目前艾明坷在工业自动控制系统及装备中享有---的声誉。艾明坷取得---商盟，标志着我们的服务和管理水平达到了一个新的高度。艾明坷全体员工愿与各界有识之士共同发展，共创美好未来。
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