真空镀膜系统厂家

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    2022-7-17

张女士
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真空镀膜系统

离子蒸发及溅射源 

多弧镀的蒸发源一般为圆饼形,俗称圆饼靶,也有长方形的多弧靶。靶座中装有磁铁,通过前后移动磁铁,改变磁场强度,可调整弧斑移动速度及轨迹。为了降低靶及靶座的温度,要给靶座不断通入冷却水。为了---靶与靶座之间的高导电、导热性,还可以在靶与靶座之间加锡垫片。磁控溅射镀膜一般采用长方形或圆柱形溅射阴极。




st系列镀膜机

st系列镀膜机系我司标准化产品,满足大部分实验室科研需求,丰富的可选配置也可响应您的特殊需要。特点:1、集成一体化结构。

2、---真空度高,可达7×10-5pa,可---更高的镀膜纯净度,提高镀膜。

3、从---到工作背景真空(7×10-4pa)时间短,30分钟左右(充干燥氮气)。 系统停泵关机12小时后真空度:≤8pa。

4、整机采用柜式结构,密封性能好,防尘防水,安全。

5、磁控、热蒸发多种镀膜方式可选。

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真空镀膜基础知识

镀膜方法可以分为气相生成法,氧化法,离子注入法,扩散法,电镀法,涂布法,液相生长法等。气相生成法又可分为物理气相沉积法,化学气相沉积法和放电聚---等。

真空蒸发,溅射镀膜和离子镀等通常称为物理气相沉积法,真空镀膜系统厂家,是基本的薄膜制备技术。它们都要求淀积薄膜的空间要有一定的真空度。所以,真空技术是薄膜制作技术的基础,获得并保持所需的真空环境,是镀膜的---条件。




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