真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，mbe分子束外延，真空镀膜系统价格，pld激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。 对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且终沉积在基片表面，经历成膜过程，终形成薄膜。
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一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。厚度均匀性主要取决于：
1、基片材料与靶材的晶格匹配程度
2、基片表面温度
3、蒸发功率，速率
4. 真空度
5. 镀膜时间，厚度大小
组分均匀性：蒸发镀膜组分均匀性不是很容易---，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。
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氧化物一氧化硅sio，二氧化硅sio2，二氧化钛tio2，二氧化锆zro2，二氧化铪hfo2，一氧化钛tio，五氧化三钛ti3o5，五氧化二铌nb2o5，五氧化二钽ta2o5，氧化钇y2o3，氧化锌zno等高纯氧化物镀膜材料。
其它化合物---锌zns，---znse，氮化钛tin，碳化硅sic，钛酸---latio3，钛酸钡batio3，钛酸---srtio3，钛酸镨prtio3，硫1化镉cds等真空镀膜材料。
金属镀膜材料高纯铝al，高纯铜cu，高纯钛ti，高纯硅si，高纯金au，高纯银ag，高纯铟in，高纯镁mg，高纯锌zn，高纯铂pt，高纯锗ge，高纯镍ni，高纯金au，金锗合金auge，金镍合金auni，镍铬合金nicr，钛铝合金tial，锌铝合金znal，铝硅合金alsi等金属镀膜材料。
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